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氮化硅片
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性状: PE、LPCVD、低应力氮化硅等各种厚度单双面氮化硅、及多层复合氧化/氮化镀膜硅片;

氮化硅膜层均匀、致密无漏电,各种厚度、氧化加氮化及特殊加工要求均可提供;

可提供100nm、150nm、200nm、500nm、1um等各种不同尺寸、厚度氮化硅片;